表面科學與介面分析實驗室專精於半導體元件製程、材料分析、積層製造及永續能源等領域。實驗室聚焦於結合各類表面分析技術與濺射技術，以深入探討材料與元件的劣化與衰退機制。研究團隊成員背景多元，涵蓋化工、材料、化學、生醫工程等領域，並在實驗操作、溝通與簡報能力上持續精進，促使跨領域合作更加完善。本實驗室的核心研究主題包括：

• 太陽能光電材料：如有機光伏（OPV）與鈣鈦礦太陽能電池。鈣鈦礦具備高能量轉換效率、低成本、低溫製程等優勢，且薄膜輕薄具延展性，可望透過特殊印刷技術製造出超薄、可撓曲的太陽能電池。然而，其安全性與長期穩定性仍是需克服的重要課題。
• 積層製造（3D 列印）：特別著重於近年熱門的光固化列印技術。雖然光固化設備具高精度與優良表面品質，但目前材料種類受限、加工難度較高，因此光固化樹脂材料的開發為實驗室的研究重點之一。
• 表面分析技術：包含 XPS、ToF-SIMS、AES 及其他介面分析工具。透過不同分析儀器觀察材料在環境因子影響下的元素組成與分子特性變化，並結合 GCIB 進行深度方向（縱深）剖析，以全面探討元件的老化與衰退機制。

本實驗室致力於透過跨領域合作與先進分析技術，推動材料開發、能源應用與半導體製程研究的持續進展。