電子束微影系統 e-beam lithography

名稱：電子束微影系統 e-beam lithography

用途：電子束微影

加速電壓：0.5~30 kV

解析度：1.0 nm (30 kV)、3 nm (1 kV)

放大倍率：x25 ~x650,000

試片座移動範圍：

X-direction: 0~70 mm

Y-direction: 0~50 mm

Z-direction: 1.5~25 mm

Tilt:0~60°

Rotation:360°endless

注意事項：

(1).提供可導電的碳膠帶與銅膠帶，以供固定試片。

(2).提供空白光碟片(可自備)，儲存實驗資料，光碟片費用另計。

(3).試片不得為含有毒性、腐蝕性、揮發性、磁性、水分及低熔點等粉末材料及有機高分子材料或任何會污染機台真空的材料。

(4).預約當日無法如期到場，仍無事先電話取消預約，累計3次以上，暫停該實驗室1個月的預約權。

(5).因人為不當操作導致機台故障，立即取消該預約者認證資格，並暫停該實驗室2個月預約權。該預約者經2個月後，需再次認證，通過認證才可預約

管理者：洪玉珠吳仲倫

放置位置：奈米金屬光學元件實驗室

工EC3019

連絡電話或分機： 4471

開放時段：

24hr(敬請完成線上登記)

收費標準：

使用費：本系550元/hr(轉帳)，本系707元/hr(收據)，本校外系1457\元/hr，外校1540元/hr

操作服務費：1500元/1hr

認證費：500/1人

是否允許自行使用：開放自行操作，使用者需先通過認證

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