反應式離子蝕刻機Reactive Ion Etching (RIE)
名稱： 反應式離子蝕刻機Reactive Ion Etching (RIE)
用途 ：蝕刻SiO2 清潔表面
廠牌與型號：MARCH (CS-1701)
重要規格：使用氣體 O2 N2 CF4
管理者 ：邱逸仁 / 張雁翔
放置位置 ：工EC4016
連絡電話或分機： 4472
開放時間：
星期一至星期五10:00-22:00
收費標準：
使用費：本系393元/次，本校外系756元/次，外校1571元/次
操作服務費：本系500元/次，本校外系500元/次，外校500元/次
開放自行操作（使用者需通過操作認證）
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