名稱 ：離子槍輔助電子束蒸鍍/熱蒸鍍系統E-gun/Thermal evaporator

用途 ：光學薄膜鍍膜、抗反射鍍膜、透明導電薄膜鍍膜、介電質薄膜鍍膜。

 

廠牌與型號:SHOWA/SGC-22SA

 

 

重要規格

1.真空抽氣系統:oil rotary pump、mechanical booster pump、oil diffusion pump、cryo pump (~2e-4 pa)，最低工作壓力 5e-3 pa

2.膜厚監控系統:石英振盪片(Au/5M)(厚度誤差<3%)、光學玻璃反射式監控。

3.批量鍍膜:10~15片4吋(~8片6吋)silicon wafer/次

4.靶材:AZO、Si、SiO2、TiO2、Al2O3、Ta2O5、SiO等氧化物(介電質)

 

 

 

注意事項

1.本系統每週開放服務5天，每週六、日預設為設備維護保養時間。

2. 所有使用者均需經過認證，且每次使用前均需完成線上登記方可使用。

3. 預約後欲取消須於24小時之前至線上，違者當天停止使用並照常計費。

4. 其他相關規定與罰責，依據光電系共用實驗室儀器管理辦法實施。

5. 洪勇智老師的Group可免使用費，但仍然須付氣體、maintain費用。

6. 若須進行委託製程，則需額外支付操作服務費，為避免不必要紛爭，委託製程不保證實驗良率。 9.嚴禁將易揮發之樣品放進腔體中，以免造成汙染，違者停權，並需負擔後續維修費用。

10.氧氣流量需固定在0.5L/min，不得隨意更改，如有異常請聯絡儀器管理者。 11.需完整將腔體緊閉才可將紫外燈或臭氧燈開關打開。 12. 不論是自行操作或委託製程，在實驗前需與儀器負責人溝通，若有特殊需求(如委託合作進行製程開發)，請與儀器保管教授聯絡。

購入日期 2016-01-00

管理者 ：洪勇智 / 林信璋 / 黃家偉

放置位置 ：積體光電元件實驗室EC4033

連絡電話或分機： 4432

開放時間：

每周星期一至星期五9:00-21:00 國定假日及周末不開放

 

收費標準：

使用費：本系1000元/次，本校外系2160元/次，外校3600元/次

操作服務費：本系500元/次，本校外系500元/次，外校500元/次

 

開放自行使用（使用者需經過操作認證）